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HiPIMS電源磁控濺射電源高穩(wěn)定度直流電源偏壓電源離子注入電源離子源電源等離子弧電源離子束電源

核心技術

恒功率輸出特性功率因數校正本質性抑弧滅弧滿足EMC標準行業(yè)領先電源效率

行業(yè)解決方案

光伏產業(yè) 半導體制造高端裝飾鍍膜玻璃鍍膜工業(yè)工具新材料制造

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磁控濺射電源

高穩(wěn)定度直流電源

離子注入電源

離子源電源

等離子弧電源

離子束電源

偏壓電源

Bias Power Supply

偏壓電源在真空離子鍍膜工藝中對膜層質量起著至關重要的作用，偏壓可顯著提升沉積速率、提升膜層與工件的結合力、增加膜層致密性。精新偏壓電源可運行于等離子清洗、刻蝕和偏壓三種不同的功能模式，適用于等離子體薄膜沉積工藝中的不同流程。

JX-B-D直流偏壓

沉積速率快，易拉弧。適用于多數傳統鍍膜工藝

JX-B-P單極脈沖偏壓

頻率高達360KHz，可有效提高氧化膜、半導體膜的沉積速率，并能大幅減少打弧次數和能量

JX-B-DP直流疊加脈沖偏壓

可有效提高氧化膜、半導體膜的沉積速率，并能大幅減少打弧次數和能量

JX-B-PB雙極非對稱脈沖

正負脈沖幅值、寬度連續(xù)可調，沉積速率低，適合鍍硬質高端膜，大幅降低打弧次數和能量

JX-B-FM多波形偏壓

多種脈沖波形輸出，增加脈沖波形選擇靈活性。該電源在恒流模式下可用作濺射電源

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